Çin’in en başarılı litografi tarayıcı üreticisi olan Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE), çeşitli kaynaklardan gelen bilgilere nazaran şirketlerin 28nm sürecinde çip üretmesine imkan tanıyan birinci tarayıcısını üretmeyi başardı. Birinci litografi ekipmanlarının yıl bitmeden evvel teslim edilmesi planlanıyor.
SMEE için SSA/800-10W tarayıcısı bir atılım niteliği taşıyor çünkü şirketin bugün sahip olduğu en gelişmiş tarayıcı sadece 90nm çiplerin üretiminde kullanılabiliyor. 28nm litografi ekipmanları vakitle Çinli yonga üreticileri tarafından tedarik edilecek, böylece şirket kimi olgun üretim süreçleri için yerli ekipmanlara güvenmeye başlayacak.
Yıllardır lisana getirdiğimiz üzere, Çin yarı iletken bölümünde kendi kendine yetebilecek seviyeye gelmek, yabancı teknolojilere olan bağımlılığını azaltmak gayesiyle sayısız adım atıyor. SMEE’nin son atılımı epey kıymetli. Lakin şirketin bu tarayıcıyı kitlesel ölçülerde üretip üretemeyeceği bilinmiyor: Üreticiler şu anlık ASML, Canon ve Nikon’un makinelerine güvenmeye devam ediyor.
ABD hükümetinin son ihracat düzenlemeleri, Çinli yonga üreticilerinin 14nm/16nm boyutlarının altındaki yongalar, 127’den fazla etkin katmana sahip 3D NAND yongalar ve 18nm’den küçük yarı aralıklı DRAM devreleri üretmek için gerekli teknolojilere erişimini engelliyor. Hollanda, Japonya ve Tayvan’ın bu sonbaharın başlarında yürürlüğe koyduğu kısıtlamalar, SMIC ve YMTC üzere Çinli firmaları gelişmiş araçlardan uzaklaştırdı.
Sonuç olarak Çin, çip üreticilerinin 14nm üzere süreç teknolojilerinde çip üretebilmelerini sağlamak için bile dış kaynaklara muhtaçlık duyuyor. SMEE’nin 28nm kapasiteli SSA/800-10W tarayıcısı ise ilerleme yolunda değerli bir kilometre taşı.
